Главная / Сухие смеси / Смеси для пола / Универсальный наливной пол IN-TECK LUX Универсальный наливной пол IN-TECK LUX

Универсальный наливной пол IN-TECK LUX Универсальный наливной пол IN-TECK LUX

Рейтинг:
(0 голосов)
Универсальный наливной пол IN-TECK LUX Универсальный наливной пол IN-TECK LUX
Артикул:
нет
Рейтинг:
(0 голосов)
Универсальный наливной пол IN-TECK LUX Универсальный наливной пол IN-TECK LUX
Артикул:
нет
0.00 руб./ мешок
Количество:
Купить в один клик
Выберите параметры товара
Производитель

IN-TECK LUX универсальный наливной пол предназначен для выравнивания поверхностей с перепадами от 5 до 100 мм. Для получения прочной, идеально гладкой и ровной поверхности, полностью готовой для укладки напольных декоративных покрытий, на несущих основаниях со значительными перепадами и неровностями. Также для финишного тонкослойного выравнивания цементных стяжек и других рекомендуемых оснований, имеющих незначительные неровности. Применяется внутри сухих и влажных отапливаемых помещений, применяется в системе «Теплый пол». Используется в системе "плавающих" полов.

Преимущества:

  • Хорошо растекается
  • Может использоваться в качестве конечного слоя без финишного покрытия
  • Технологичен, может укладываться механическим способом
  • Технологический проход возможен через 24 - 48 часов в зависимости от толщены слоя
  • Имеет высокую адгезию к минеральным основаниям
  • Быстро схватывается
  • Износостойкий
  • Устойчив к воздействию сосредоточенных механических нагрузок

IN-TECK LUX универсальный наливной пол – самовыравнивающаяся смесь на основе цемента, мраморных наполнителей отборной фракции и полимерных модификаторов. За счет способности к самовыравниванию готовый раствор IN-TECK LUX универсальный наливной пол легко наносится и разравнивается, образуя после высыхания идеально гладкую и ровную поверхность, не требующую дополнительной шлифовки, что снижает трудозатраты при проведении работ и способствует увеличению срока службы напольных покрытий.

Товар находится в категориях
Оставьте отзыв
Заполните обязательные поля *.
Подробнее *

Назад